立命館大学発ベンチャー、Patentix株式会社（本社：滋賀県草津市、代表取締役社長：衣斐豊祐、以下「PATENTIX」）は、資本業務提携（※1）先である株式会社クオルテック（本社：大阪府堺市、代表取締役社長：山口友宏、以下「クオルテック」）がGeO₂（※2）の有償サンプルの出荷検査を行うことで、PATENTIXとクオルテックが基本合意いたしました（2024年8月１日付）。
今後、PATENTIXとクオルテックの２社が共同研究開発の拠点としている滋賀県立テクノファクトリーにて、PATENTIXはGeO₂の研究開発及び製造を行い、クオルテックは検査設備を導入し出荷前検査を行うことになります。
＜本基本合意の背景＞
PATENTIXが開発を進めるGeO₂は、従来と比べて10倍以上性能が向上すると期待されていますが、
GeO₂はルチル型結晶の作製が困難でした。
PATENTIXは独自開発したPhantomSVD®法により、GeO₂のルチル型単結晶膜の作製に世界で初めて成功しました。その結果、本年度10月頃より共同開発先などに対しGeO₂ウエハの有償サンプルの出荷を始める運びとなりました。
＜今後の展開＞
今後も引き続きGeO₂の研究開発から製造販売まで一気通貫で推し進め、GeO₂ウエハの早期供給を可能とする企業群を形成し、琵琶湖半導体構想（案）の推進とともに、世界に勝てる日本発のパワー半導体産業の実現に寄与いたします。
※1 資本業務提携：2023年12月19日締結。
＜提携の内容＞
クオルテック
・ PATENTIXへ出資（5,000万円）
・ GeO₂半導体、GeO₂半導体ウエハ、GeO₂半導体デバイスの共同研究開発
・ GeO₂半導体、GeO₂半導体ウエハ、GeO₂半導体デバイスの評価（分析・試験）
・ GeO₂半導体、GeO₂半導体ウエハ、GeO₂半導体デバイスの製造
