アメリカと日本が主導している半導体素材分野での韓国企業の特許出願が急激に増加している。

6月27日、韓国特許庁によると、代表的な半導体素材技術である半導体研磨材「CMPスラリー」に関する特許出願件数は2009年の87件から2018年の131件まで、年平均4.7％増加傾向であった。この期間中の内国人出願増加率は6.1％で、外国人出願増加率の3.6％を大幅に上回り、内国人の出願シェアも2009年の39.1％から2018年の44.3％まで拡大した。

このような現象の原因は、シェアの高いグローバル企業が特許紛争などで特許出願に消極的になっている間、韓国企業がCMPスラリーの国産化比重拡大のための活発な研究開発を行ったことにある。

半導体素子は多数の薄い膜が積層されていて、精密度を高めるためには、膜が形成されるたびに研磨剤とパッドを利用し、粗い表面を平坦化する工程が必要である。この工程をCMP工程と言い、CMPスラリーが使用される。

2009年から2018年までの10年間のCMPスラリー分野における出願数を分析すると、韓国企業のKCTechが164件（16.3%）で一位を記録した。続いて、フジミインコーポレーテッド（124件、12.4%）、日立（85件、8.5%）、Cabot Microelectronics（83件、8.3%）の順に出願件数が多かった。韓国企業では、サムスン（70件、7.0%）、SoulBrain（53件、5.3％）、LG（25件、2.5％）が10位以内であった。特に、韓国の中堅企業であるKCTechとSoulBrainの活発な特許出願はCMPスラリー分野での内国人特許出願増加をけん引し、注目を集めている。

細部技術別で分析すると、シリコン絶縁膜スラリー関連の出願が365件（36.4%）で最も多かった。続いて、銅、タングステンなどの金属膜スラリー関連の出願（290件、28.9%）、練磨粒子関連の出願（202件、20.1%）、有機膜、相変化膜などの特殊膜スラリー関連の出願（75件、7.5％）の順に出願件数が多かった。

出願者の類型別では、海外企業が61.2％（614件）、韓国企業が37.5％（377件）で、企業が特許出願を主導していた。韓国の大学は1.0％（10件）、韓国研究所は0.2％（2件）、海外大学は0.1％（1件）で、研究機関の出願は少なかった。

特許庁有機化学審査課のユ・ミル審査官は、「韓国企業の積極的な特許出願で、CMPスラリーの国産化拡大が期待される」と期待を寄せ、「半導体の微細化、高集積化は依然として進行しているため、CMPスラリーに対する技術開発はまだ必要である」と述べた。

提供元・コリア・エレクトロニクス

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